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021-61722009
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低溫冷卻液循環(huán)機
DL-2010小型低溫恒溫循環(huán)機
產(chǎn)品型號:JPDL-2010
簡介:
DL-2010小型低溫恒溫循環(huán)機醫(yī)療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波**機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
詳細介紹
DL-2010小型低溫恒溫循環(huán)機
產(chǎn)品說明:
低溫冷卻液循環(huán)泵又叫
低溫冷卻循環(huán)機
,小型低溫恒溫循環(huán)機,
兼具小型冷水機的功能。
Jipad品牌低溫冷卻液循環(huán)泵采用風冷式全封閉壓縮機組制冷及微機智能控制系統(tǒng),提供低溫循環(huán)冷卻水(液)流或低溫恒溫水(液)流,以滿足用冷卻水及低溫液體去降溫或恒溫儀器,如旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、發(fā)酵罐、電子顯微鏡、低溫化學反應釜、電子能譜儀、質(zhì)譜儀、密度儀、冷凍干燥儀、真空鍍膜儀、反應釜等。也可把多種容積直接在槽內(nèi)低溫恒溫實驗。
DL-2010小型低溫恒溫循環(huán)機
主要特征:
1.風冷式全封閉壓縮機組制冷,微機智能控制制冷系統(tǒng)自動開啟,制冷系統(tǒng)具有延時、過熱、過電流等多重保護裝置
2.循環(huán)泵可將槽內(nèi)冷液輸出,冷卻或恒溫機外實驗容器或建立**恒溫場
3.微機設有定時關機功能,開啟此功能后可在0~100小時內(nèi)任意設置定時關機時間
4.采用雙窗口,紅、綠兩種顏色LED顯示溫度設定值和溫度測量值,數(shù)顯分辨率0.1℃,微機可修正溫度測量值偏差,使數(shù)顯精度達0.1℃
5.具有微機軟件鎖功能,可鎖定系統(tǒng)各參數(shù)設定值,無關人員不能更改已設定參數(shù)
6.以上所有操作均在微機智能控制儀上按動觸摸軟鍵完成,操作簡單
7.低溫冷卻液循環(huán)泵使用方便,可連續(xù)工作
DL-2010小型低溫恒溫循環(huán)機
技術參數(shù):
型號
工作溫度(℃)
冷槽容積(L)
制冷量
(W)
恒溫精度(℃)
循環(huán)泵流量(L/min)
極限溫度(℃)
JPDL-1005
-10
5
350
0.1
15
-15
JP
DL-1015
15
800
-20
JP
DL-1020
20
1000
-20
JP
DL-1030
30
1500
-20
JP
DL-1050
50
3000
-20
JP
DL-1505
-15
5
300
-25
JP
DL-1510
10
600
-25
JP
DL-2005
-20
5
180
-25
JP
DL-2010
10
500
-25
JP
DL-2020
20
1300
-25
JP
DL-2030
30
1600
-25
JP
DL-2050
50
3500
-25
JP
DL-3005
-30
5
150
-35
JP
DL-3010
10
300
-40
JP
DL-3020
20
1400
-40
JP
DL-3030
30
1700
-40
JP
DL-3050
50
3800
-40
JP
DL-4005
-40
5
200
-45
JP
DL-4010
10
400
-45
JP
DL-4020
20
1700
-50
JP
DL-4030
30
4200
-50
JP
DL-4050
50
4800
-50
低溫冷卻液循環(huán)泵的應用領域:
1.生化領域:旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。
2.材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
3.醫(yī)療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波**機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液:乙二醇/水55/45(-30℃)、70/30(-40℃)
B丙三醇水溶液:丙三醇/水70/30(-30℃)使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求:1.乙二醇水溶液:P20=1079㎏/m3(-30℃)(-40℃)2.丙三醇水溶液:P20=1182.6㎏/m3(-30℃)不凍液用水代替時,其*溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關:通常,制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè),旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備,激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X-衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X-熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。
滬公網(wǎng)安備 31011202007166號
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